稀土抛光粉磨抛过程中玻璃的表面会形成软质层并与抛光粉中的抛光颗粒、抛光垫发生相互作用，该软质层的成分、厚度、硬度以及摩擦发生的摩擦热都将直接参与研磨并影响材料的去除速率，软质层的成分、性质与玻璃的组成、水解的pH值及水解过程的参数紧密相关。
　　提及抛光材料在磨抛玻璃时，首先是机械作用，去除玻璃表面的凹凸层。即此过程中，玻璃的表面会不断露出新的表面，新的表面极易会发生水解，在玻璃的表面会形成一层硅胶凝胶层，不溶于水，此硅胶薄膜会对玻璃有保护作用，并阻碍玻璃的进一步水解，硅胶薄膜的厚度一般在1.Snm}7.Onm, 且在有COa存在的情况下，会发生如下（1.2）和（1.3）的水解反应：Na2SiOs2H20= 2NaOHHZSiOs（1.22NaOHCOa=Na2COsHaO（13）此时，抛光粉中C e0:颗粒会去掉硅胶层，使玻璃形成光涓的表面，同时在机械的作用下，伴随着抛光粉颗粒的破碎。氧化铈稀土抛光粉稀土抛光粉的制备方。
　　目前，我国生产氧化铈稀土抛光粉的原料有很多种，不同的原料对应不同的制备工艺。从制备工艺来看，可以分为四大类：一是稀土矿物原料焙烧法；二 是以稀士可溶性盐为原料的沉淀一焙烧法；三 是以沉淀剂制备前驱体的沉淀一焙烧法；四是纳米氧化饰的制备法。文章摘自：http://www.yhlpgf.com/
李总：13605335806

稀土抛光粉的具体抛光过程
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